[实用新型]真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置无效
| 申请号： | 200820007895.1 | 申请日： | 2008-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN201172687Y | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 黄泳钊;郑博仁 | 申请（专利权）人： | 北儒精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，设置于该真空溅镀设备的一反应腔体中，并能使一板状的基材载架正面朝上地倾斜移置于该反应腔体内。该倾斜式基材载送装置包括一支撑设置于该基材载架的一底部的下滚送单元，以及一支撑设置于该基材载架的一背面顶侧处的上滚送单元。本实用新型所述的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，能让该基材载架的装载于整体上产生极佳的便利性。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 设备 倾斜 基材 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，设置于该真空溅镀设备的一反应腔体中，并包括一支撑设置在一板状的基材载架的一底部的下滚送单元；其特征在于，还包括一上滚送单元，该上滚送单元支撑设置于该基材载架的一背面顶侧处，并能与该下滚送单元相配合使该基材载架正面朝上地倾斜摆放在该反应腔体内。
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