[实用新型]薄膜沉积装置

摘要

公开了一种薄膜沉积装置，所述装置包括箱体、反应室和射频激励源，所述反应室置于所述箱体内部，所述箱体具有气体进入口和气体排出口，所述反应室包括金属上横梁、下横梁和与所述上横梁、下横梁连接的金属侧壁，所述上横梁和下横梁之间具有第一电极板和第二电极板，各所述第一电极板和第二电极板彼此电绝缘且等距、平行、间隔交替排列，反应气体由所述进入口进入所述第一电极板和第二电极板之间的空间，并经所述气体排出口排出箱体。本实用新型的薄膜沉积装置能够大幅度提高薄膜沉积、特别是大面积薄膜沉积的效率，并可降低沉积层之间的交叉污染。

主权项

1、一种薄膜沉积装置，所述装置包括箱体、反应室和射频激励源，所述反应室位于所述箱体内部，所述箱体具有气体进入口和气体排出口，其特征在于：所述反应室包括金属上横梁、下横梁和与所述上横梁、下横梁连接的金属侧壁，所述上横梁和下横梁之间具有第一电极板和第二电极板，各所述第一电极板和第二电极板彼此电绝缘且等距、平行、间隔交替排列。