[实用新型]掩膜保护装置无效
申请号: | 200820008464.7 | 申请日: | 2008-03-19 |
公开(公告)号: | CN201166780Y | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 林添俊 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型的掩膜保护装置,是用于保持掩膜洁净,该掩膜保护装置包括一框体,此框体与掩膜接触面配置至少一凹槽,另外在框体内设置一贯穿孔,此贯穿孔贯穿凹槽与框体,贯穿孔的一端设有气阀开关,当此气阀开关与一泵连结时,凹槽的压力小于大气压力,则此框体会与掩膜紧密吸附,保持气密状态。本实用新型无需使用粘着剂,可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的污染微粒对掩膜造成的伤害。 | ||
搜索关键词: | 保护装置 | ||
【主权项】:
1、一种掩膜保护装置,其包含一框体,该框体是由一中空结构所形成,该掩膜保护装置的特征在于:该框体与掩膜接触的表面上配置有至少一凹槽且于该框体的一端上设置一贯穿该框体及该凹槽的贯穿孔。
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