[实用新型]涂胶显影设备的工艺墙框架有效

专利信息
申请号: 200820013644.4 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN201226079Y 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 魏猛 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/26
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 许宗富;周秀梅
地址: 110168辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种涂胶显影设备的工艺墙框架,属于半导体晶片涂胶显影技术领域。它是由多个型材构成的立体框架结构,顶架上置有顶板,底架两长边中间安装有底板,顶板和底板之间固定有中间立柱,在中间立柱两侧为对称结构的工艺单元框架模块,所述工艺单元框架模块的结构:是在工艺墙框架顶架和底架的两长边间分别安装有侧柱,两边框立柱及两侧柱上分别安装有侧板,两侧柱上并列安装有多个弧型板,相邻弧型板形成的空间构成晶片进出口,对应每个弧型板在两边框立柱及两侧柱上安装有滑道,该滑道延伸至弧型板的直线段,整个框架形成多个相同空间。本实用新型各工艺单元的活动模块式结构,可以整体拆装。底部的滑轮以减小框架之间的摩擦所带来的灰尘颗粒和划伤。
搜索关键词: 涂胶 显影 设备 工艺 框架
【主权项】:
1、一种涂胶显影设备的工艺墙框架,其特征在于:它是由多个型材构成的立体框架结构,顶架上置有顶板,底架两长边中间安装有底板,顶板和底板之间固定有中间立柱,在中间立柱两侧为对称结构的工艺单元框架模块,所述工艺单元框架模块的结构:是在工艺墙框架顶架和底架的两长边间分别安装有侧柱,两边框立柱及两侧柱上分别安装有侧板,两侧柱上并列安装有多个弧型板,相邻弧型板形成的空间构成晶片进出口,对应每个弧型板在两边框立柱及两侧柱上安装有滑道,该滑道延伸至弧型板的直线段,整个框架形成多个相同空间。
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