[实用新型]大容积陶瓷真空室有效
| 申请号： | 200820028714.3 | 申请日： | 2008-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN201162032Y | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张小奇;张军辉;马力祯;何源;赵玉刚;胡振军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | C21D10/00 | 分类号： | C21D10/00;C22F3/00;C22C1/02 |
| 代理公司： | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张真 |
| 地址： | 730000*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型主要涉及电真空领域，尤其涉及在高频交流电场或交变磁场下可以使用的一种大容积超高真空容器。包括陶瓷管(3)，其主要特点是陶瓷管(3)两端联结有钛管(2)，钛管(2)的端部设有真空法兰(1)。陶瓷管(3)可采用大口径。陶瓷管(3)为2－4段，陶瓷管(3)之间采用过渡环(4)相连接。钛管(2)与陶瓷管(3)的联结处，钛管(2)的端部为直角翻边，其翻边平面与陶瓷管(3)的端面相联。所述的大容积陶瓷真空室真空度好于1×10－7Pa，直径近300毫米，长度大于1100毫米，容积70升。 | ||
| 搜索关键词： | 容积 陶瓷 真空 | ||
【主权项】：
1.一种大容积陶瓷真空室，包括陶瓷管(3)，其特征在于：陶瓷管(3)两端联结有钛管(2)，钛管(2)的端部设有真空法兰(1)。
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