[实用新型]磁控溅射靶结构及设备有效
| 申请号： | 200820079516.X | 申请日： | 2008-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN201162043Y | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张文余;赵鑫 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射靶结构及磁控溅射靶设备。本实用新型所述的磁控溅射靶结构包括：传动装置，至少两个转动轴和多个磁靶条；所述传动装置缠绕于所述转动轴上，形成传动装置式传动结构；所述磁靶条并排布设于所述传动装置上。本实用新型所述的磁控溅射靶设备包括除上述磁控溅射靶结构外，还包括：靶材，位于所述传动装置式传动结构的外侧。通过本实用新型，由于采用传动装置带动磁体规律性的运动，形成平行均匀磁场，因此能够使靶材消耗非常均匀，避免了局部损耗过大的问题，从而提高了靶材的利用率；延长了靶材的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 结构 设备 | ||
【主权项】：
1、一种磁控溅射靶结构，其特征在于，包括：传动装置，至少两个转动轴和多个磁靶条；所述传动装置缠绕于所述转动轴上，形成传动装置式传动结构；所述磁靶条并排布设于所述传动装置上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司，未经北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200820079516.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
