[实用新型]一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜无效
申请号: | 200820081869.3 | 申请日: | 2008-01-07 |
公开(公告)号: | CN201156443Y | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
发明(设计)人: | 乐孜纯;董文;梁静秋 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | G21K1/06 | 分类号: | G21K1/06 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人: | 王兵;袁木棋 |
地址: | 310014*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜,包括一个一级X射线组合透镜、一个二级X射线组合透镜和一个光轴校准器共同组成,所述一级X射线组合透镜和二级X射线组合透镜固定于所述光轴校准器上,入射X射线束首先射入所述一级X射线组合透镜,经所述一级X射线组合透镜聚焦并出射后,射入所述二级X射线组合透镜再次聚焦,所述二级X射线组合透镜与所述一级X射线组合透镜之间有由所述一级X射线组合透镜的焦斑尺寸和所述二级X射线组合透镜的几何口径共同确定的间隔。 | ||
搜索关键词: | 一种 跨接式 纳米 聚焦 射线 组合 透镜 | ||
【主权项】:
1、一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜,其特征在于:包括一个一级X射线组合透镜、一个二级X射线组合透镜和一个光轴校准器共同组成,所述一级X射线组合透镜和二级X射线组合透镜固定于所述光轴校准器上,入射X射线束首先射入所述一级X射线组合透镜,经所述一级X射线组合透镜聚焦并出射后,射入所述二级X射线组合透镜再次聚焦,所述二级X射线组合透镜与所述一级X射线组合透镜之间有由所述一级X射线组合透镜的焦斑尺寸和所述二级X射线组合透镜的几何口径共同确定的间隔。
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