[实用新型]沉积材料形成镀层的设备有效
申请号: | 200820112365.3 | 申请日: | 2008-08-27 |
公开(公告)号: | CN201614406U | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 丹尼斯·梯尔 | 申请(专利权)人: | 梯尔涂层有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 林芳芳;王洁 |
地址: | 英国德罗特威茨*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 本实用新型涉及产生并且维持一个闭合场的设备,所述设备提供磁控管和/或磁体组件以在一个有待镀层的基底所处位置的一个镀层腔体内产生一个磁场。为了实现这一目标,至少提供两个磁控管和/或磁体组件,每一个都具有内部部分和相反极性的外部部分。所述磁控管和/或磁体阵列设置为:一个磁控管和/或磁体组件的外部部分和其他,或另一个磁控管和/或磁体组件的外部部分,放置在相邻位置。并且,至少一个所述磁控管或磁体组件具有相反极性。 | ||
搜索关键词: | 沉积 材料 形成 镀层 设备 | ||
【主权项】:
一个沉积材料形成镀层的设备包括:电场装置,用于产生一个指向一个待镀层的基底(‘7:7‘)的电场(E)和磁场装置(1,2;10,11,12;20),所述磁场装置包括至少两个磁控管(1,2;10,12)和/或磁体组件,每一个都具有内部部分和相反极性的外部部分,其特征在于所述磁控管和/或磁体阵列设置为:一个磁控管和/或磁体组件(1;10)的外部部分和其他,或另一个磁控管和/或磁体组件(2;12)的外部部分,放置在相邻位置;并且,至少一个所述磁控管或磁体组件的外部部分具有相对于其他或另一个磁控管和/或磁体组件的外部部分的极性的相反极性。
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