[实用新型]研磨垫有效
| 申请号： | 200820119262.X | 申请日： | 2008-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN201239920Y | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 吴宗儒 | 申请（专利权）人： | 智胜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D17/00 | 分类号： | B24D17/00;B24D3/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘粉宝 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种研磨垫，它包括一研磨层、一离形层以及一黏着层，黏着层位于离形层与研磨层之间；另外本实用新型的研磨垫还包括一延伸层，延伸层与离形层相连；特别是，离形层或延伸层的至少一部分的边缘会凸出研磨层的边缘以作为一撕取握持部。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
1、一种研磨垫，包括：一研磨层；一离形层；以及一黏着层，位于所述离形层与所述研磨层之间，其特征在于，所述离形层的至少一部分边缘凸出研磨层的边缘作为一撕取握持部。
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