[实用新型]平面显示器用玻璃基板的外部机械研磨装置无效
| 申请号： | 200820131288.6 | 申请日： | 2008-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN201264218Y | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 柳泽真太郎 | 申请（专利权）人： | 何义炉 |
| 主分类号： | B24C3/12 | 分类号： | B24C3/12;B24C1/04;B24C5/04 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型是关于一种平面显示器用玻璃基板的外部机械研磨装置，其包括处理室用于进行研磨处理，与用于保持玻璃基板在处理室内特定位置的基板保持具；将溶出玻璃基板外表面材料的溶出液，向着玻璃基板外表面喷射的喷射孔的多个喷嘴；以及供给溶出液的溶出液供给系统，藉由将附加有本身重量所造成的加速度的溶出液由喷嘴喷出，往玻璃基板外表面喷出并冲击玻璃基板，利用冲击造成的物理作用来加以研磨的压力，进行玻璃基板的研磨。本实用新型透过连续供应的溶出液喷射，可进行有效率且平均性优良的研磨；还可以充分供给新溶出液来进行研磨，即使是外表面的玻璃成份或结晶状态不平均的玻璃基板，亦可充分研磨，而更确保较高的平坦性。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 显示 器用 玻璃 外部 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】：
1、一种平面显示器用玻璃基板的外部机械研磨装置，其特征在于其包括：一处理室(20)；一基板保持具(30)，该基板保持具(30)夹持上述玻璃基板(10)设置在处理室(20)内；多个喷嘴(40)，该喷嘴(40)具有喷射孔(41)，该喷射孔(41)，向着被上述基板保持具(30)夹持的上述玻璃基板(10)的外表面，喷出溶出上述玻璃基板(10)外表面材料的溶出液(L)；一溶出液供给系统(50)，对上述该些喷嘴(40)供给附加有本身重量所造成的加速度的溶出液(L)；以及一移动机构，承载上述玻璃基板(10)，且相对于喷嘴(40)的喷射孔(41)移动。
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