[实用新型]阿达玛变换干涉光谱成像设备无效

专利信息
申请号: 200820131495.1 申请日: 2008-08-21
公开(公告)号: CN201242471Y 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 周锦松;相里斌 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01J3/45 分类号: G01J3/45
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 代理人: 康 凯
地址: 710119陕西省西安*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种阿达玛变换干涉光谱成像设备,包括沿光路设置的阿达玛模板,把目标成像于有n个码元的阿达玛模板表面上的前置光学成像系统,在阿达玛模板垂直于光轴的方向上将其剪切成两个虚阿达玛模板的横向剪切干涉仪,探测器以及与探测器连接的计算机系统,还包括紧贴于阿达玛模板设置的光阑;设置于横向剪切干涉仪与探测器之间的傅氏透镜和柱面镜,阿达玛模板位于傅氏透镜的前焦面,探测器位于傅氏透镜和柱面镜的后焦面。本实用新型不受阿达玛模板尺寸限制,形成系统结构简单。
搜索关键词: 阿达玛 变换 干涉 光谱 成像 设备
【主权项】:
1. 一种阿达玛变换干涉光谱成像设备,包括沿光路设置的阿达玛模板(3),把目标成像于有n个码元的阿达玛模板(3)表面上的前置光学成像系统(1),在阿达玛模板(3)垂直于光轴的方向上将其剪切成两个虚阿达玛模板的横向剪切干涉仪(4),探测器(7)以及与探测器(7)连接的计算机系统(8),其特征在于:还包括紧贴于阿达玛模板(3)设置的光阑(2);设置于横向剪切干涉仪(4)与探测器(7)之间的傅氏透镜(5)和柱面镜(6),所述阿达玛模板(3)位于傅氏透镜(5)的前焦面,所述探测器(7)位于傅氏透镜(5)和柱面镜(6)的后焦面。
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