[实用新型]真空溅镀机的阴极构造无效
| 申请号： | 200820135886.0 | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN201301337Y | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 刘辛 | 申请（专利权）人： | 苏州凡特真空溅镀科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空溅镀机的阴极构造，包含：辅助磁场产生装置，其与真空溅镀机的机架机械性连接，可产生辅助磁场；靶材，其与电场阴极相接并具有内侧面与外侧面，所述内侧面朝向所述辅助磁场产生装置，所述外侧面朝向真空溅镀机的轰击带电粒子；及干扰磁性片，位于所述靶材与辅助磁场产生装置之间。本实用新型的有益效果为：在相同溅镀条件下，靶材寿命可以增加50-200％，在降低成本上有很大效果；除了靶材寿命增加降低成本外，使得产品品质与稼动率上有很大改善，约可以再增加产值15％。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 溅镀机 阴极 构造 | ||
【主权项】：
1、一种真空溅镀机的阴极构造，包含：辅助磁场产生装置，其与真空溅镀机的机架机械性连接；靶材，其与电场阴极相接并具有内侧面与外侧面，所述内侧面朝向所述辅助磁场产生装置，所述外侧面朝向真空溅镀机的轰击带电粒子；其特征在于：还包括干扰磁性片，所述干扰磁性片置于所述靶材的内侧面且位于所述靶材与辅助磁场产生装置之间。
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