[实用新型]一种铝合金光谱分析用试样模无效
申请号: | 200820176304.3 | 申请日: | 2008-10-15 |
公开(公告)号: | CN201319004Y | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 陈瑜;马国俊;刘功达;马世金;陈意;黄家川;彭霞;林红;董建华 | 申请(专利权)人: | 西南铝业(集团)有限责任公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N21/25 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙长龙 |
地址: | 40132*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种铝合金光谱分析用试样模,包括底模座和铰接在底模座上的左模座、右模座,在以左模座及右模座相对一侧的拼缝为中心的位置形成有浇注口以及模腔,在所述的底模座上部对应所述模腔的位置设置有底模镶件,在所述的左模座以及右模座中在模腔周围分别装有左模镶件以及右模镶件,使得所述模腔是由底模镶件以及左模镶件和右模镶件所围成的空间构成,所述底模镶件、左模镶件和右模镶件采用熔点高于试样合金且传热系统高于底模座和左模座、右模座的材质。这种试样模可改善铝合金光谱分析用试样的成分偏析,进而提高了试样分析面代表性、数据重现性。 | ||
搜索关键词: | 一种 铝合金 光谱分析 试样 | ||
【主权项】:
1、一种铝合金光谱分析用试样模,包括底模座和铰接在底模座上的左模座、右模座,在以左模座及右模座相对一侧的拼缝为中心的位置形成有浇注口以及模腔,其特征在于:在所述的底模座上部对应所述模腔的位置设置有底模镶件,在所述的左模座以及右模座中在模腔周围分别装有左模镶件以及右模镶件,使得所述模腔是由底模镶件以及左模镶件和右模镶件所围成的空间构成,所述底模镶件、左模镶件和右模镶件采用熔点高于试样合金且传热系统高于底模座和左模座、右模座的材质。
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