[实用新型]基板处理装置无效

专利信息
申请号: 200820179387.1 申请日: 2008-12-04
公开(公告)号: CN201417757Y 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 广城幸吉;山本秀幸;竹下和宏;户岛孝之 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B3/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;杨松龄
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型涉及基板处理装置,其将基板浸入贮存的处理液中,进行基板处理。该基板处理装置设有具有相向配置的一对侧壁的处理槽和分别对应于上述一对侧壁而设置的一对处理液供给机构。上述一对处理液供给机构向连接上述一对侧壁的宽度方向上的上述处理槽内的中央侧供给处理液,从而在上述处理槽内的上述宽度方向上的中央区域形成上升流。上述一对侧壁的各自内壁面包括本体部、位于上述本体部上方的突出部以及位于最上方、形成上述处理液溢出的排出口的排出导向部。上述排出导向部向上且朝上述宽度方向的中央侧的对侧倾斜。上述突出部包括在上述宽度方向上比上述本体部及上述排出导向部更位于中央侧的内端部。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
1.一种基板处理装置,将基板浸入贮存的处理液中而进行基板的处理,其特征在于,设有:至少具有相向配置的一对侧壁的处理槽;以及分别对应于所述一对侧壁而设、向所述处理槽内供给处理液的一对处理液供给机构,所述一对处理液供给机构构成为:向连接所述一对侧壁的宽度方向上的所述处理槽内的中央侧供给处理液,由此在所述处理槽内所述宽度方向的中央区域形成上升流,所述一对侧壁的各自的内壁面包括本体部、位于所述本体部上方的突出部以及位于最上方、形成所述处理液溢出的排出口的排出导向部,所述排出导向部向上且朝所述宽度方向的中央侧的对侧倾斜,所述突出部包括在所述宽度方向上比所述本体部的上方端部和所述排出导向部的下方端部更靠近所述中央侧的内端部。
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