[实用新型]光罩盒有效
申请号: | 200820189661.3 | 申请日: | 2008-03-24 |
公开(公告)号: | CN201352302Y | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 林志铭 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一种光罩盒,此光罩盒由上盖体与下盖体组合而成,形成一内部空间可容纳光罩,并具有至少一锁扣件以及至少一锁扣座;上盖体以及下盖体具有至少一对应的侧边,且锁扣件设于上盖体或下盖体的侧边,而另一盖体的侧边具有至少一锁扣槽设于对应锁扣件的位置,锁扣座固设于锁扣槽中。其锁扣座材质的耐磨度较高,可避免光罩盒的上下盖体盖合并锁扣时,因摩擦而导致锁扣座磨损,使得上下盖体盖合后仍有松动的现象产生;其锁扣座是以卡设的方式固设于上下盖体,于部分损坏或磨损时更换。 | ||
搜索关键词: | 光罩盒 | ||
【主权项】:
1、一种光罩盒,其包含:一上盖体;一下盖体,用以与该上盖体组合,形成一内部空间可容纳一光罩;至少一锁扣件;以及至少一锁扣座;其特征在于,该上盖体以及该下盖体具有至少一对应的侧边,且该锁扣件设于该上盖体的侧边,而另一盖体的侧边具有至少一锁扣槽设于对应该锁扣件的位置,该锁扣座固设于该锁扣槽中。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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