[实用新型]镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室有效
| 申请号： | 200820215302.0 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN201326009Y | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 赵子东 | 申请（专利权）人： | 苏州新爱可镀膜设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所 | 代理人： | 黄春松 |
| 地址： | 215625江苏省张家港*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种等离子气氛稳定性较好的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。本实用新型适用于镀膜玻璃生产装置。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 玻璃 用磁控 空腔 | ||
【主权项】：
1、镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，其特征在于：在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。
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