[发明专利]超光滑面溅射靶及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200880003420.8 申请日: 2008-01-29
公开(公告)号: CN101595239A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 特里·L·班克斯;戴维·B·斯马瑟斯 申请(专利权)人: 东曹SMD有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋 莉
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供去除溅射靶表面变形层厚度从而在溅射操作期间实现降低的预烧时间的方法。所述方法包括用粘弹性研磨介质对所述靶表面进行挤压珩磨抛光。
搜索关键词: 光滑 溅射 及其 制造 方法
【主权项】:
1.处理溅射靶表面以去除表面变形层厚度从而在溅射过程中实现降低的预烧时间的方法,包括:将所述靶表面与粘弹性研磨介质(VEAM)接触,并且赋予在所述靶表面和所述介质之间的相对运动,从而对所述靶表面进行挤压珩磨抛光。
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