[发明专利]中空结构形成基底、其生产方法、用其生产中空结构的方法有效
| 申请号： | 200880003443.9 | 申请日： | 2008-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN101594974A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 升泽正弘;大垣杰 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B29C44/00 | 分类号： | B29C44/00;B29C33/38;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王 冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种中空结构形成基底，包括：在其上通过利用可塑性变形材料形成塑性变形膜(24)的表面(23”)；多个规则排列的气体保持空间(21)；多个气体导出部分(22)，每个气体导出部分(22)具有面对气体保持空间(21)的相应一个第一开口(22b)和面对表面(23”)的第二出口(22a)，在减压环境条件下气体导出部分将保持在气体保持空间(22)内的气体向着表面(23”)导出；以及多个渗透防止空间(22)，每个渗透防止空间(22)设置在相应一个第一开口(22b)和相应一个第二开口(22A)之间的空间，其中渗透防止空间(22c)防止可塑性变形材料从表面(23”)渗透到气体保持空间(22c)中。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 结构 形成 基底 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种中空结构形成基底，包括：在其上通过利用可塑性变形材料形成塑性变形膜的表面；多个规则排列的气体保持空间，每个气体保持空间将气体保持在其中；多个气体导出部分，每个气体导出部分具有面对所述气体保持空间的相应一个第一开口和面对所述表面的第二开口，在减压环境条件下所述气体导出部分将保持在所述气体保持空间内的气体向着所述表面导出；以及多个渗透防止空间，每个渗透防止空间设置在相应一个所述第一开口和相应一个所述第二开口之间的空间中，所述渗透防止空间防止所述可塑性变形材料从所述表面渗透到所述气体保持空间内，其中，所述塑性变形膜通过从所述气体保持空间经所述渗透防止空间导出到所述气体导出部分的气体的膨胀压力在所述表面上变形和膨胀，以形成具有规则排列的中空部分的中空结构。
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