[发明专利]用于光处理的超材料结构以及处理光的方法无效
| 申请号： | 200880003629.4 | 申请日： | 2008-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN101595609A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | A·布拉特科夫斯基 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/136 | 分类号： | H01S3/136;H01S3/137;H01S5/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 薛 峰;谭祐祥 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于光处理的超材料结构(100、700a、700b、700c)，其包括光导(104、704a、704b、704c)以及具有一谐振频率的复合谐振电磁(EM)结构(102、202、302、402)。该复合谐振电磁结构被布置成与沿着该光导传播的光相互作用，以便将该光的频率上变频至该谐振频率，这会产生该光频率的二次谐波和更高次谐波。本发明还公开了处理光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 材料 结构 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光处理的超材料结构(100)，包括：第一光导(104、704a)；以及第一复合谐振电磁结构(102、202、302、402、702a)，其具有第一谐振频率ωR1，将所述第一复合谐振电磁结构定位成与沿着所述第一光导传播的光相互作用，以便将所述光的频率ω1上变频至ωR1，这会产生ω1的二次谐波和/或更高次谐波。
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