[发明专利]用于复杂图案形成的光敏PDMS无效
申请号: | 200880004198.3 | 申请日: | 2008-08-29 |
公开(公告)号: | CN101790523A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
发明(设计)人: | 马宏伟;付龙 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | C07D257/06 | 分类号: | C07D257/06;C08J7/12;B01L3/00;B32B25/20;B32B33/00;C08J7/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;王春伟 |
地址: | 100871 中国北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本文公开了表面官能化的聚(二甲基硅氧烷)(PDMS)及其制备方法。本文公开的表面官能化的PDMS可适用在微流体、生物MEMS(生物微电子机械系统)、软刻蚀的一般领域中和其它相关的生物技术领域。 | ||
搜索关键词: | 用于 复杂 图案 形成 光敏 pdms | ||
【主权项】:
1.式I化合物:其中:R1是氢或甲基;R2选自任选地被1~3个R4基团取代的烷基、任选地被1~4个R4基团取代的芳基、任选地被1~4个R4基团取代的环烷基、任选地被1~4个R4基团取代的杂环烷基、以及任选地被1~4个R4基团取代的杂芳基;X是O或NR3,其中R3是氢或烷基;L1和L2独立地选自直接键合、任选地被1~2个R4基团取代的亚甲基、任选地被1~4个R4基团取代的(C2-C12)亚烷基、任选地被1~4个R4基团取代的(C6-C12)亚芳基、和任选地被1~4个R4基团取代的(C3-C12)亚环烷基;以及每个R4独立地选自卤素、硝基、氰基、氧代、氨基酰基、氨基酰氧基、羧基、羧酸酯、碳酸酯、氨基磺酰基、(C1-C10)烷基、(C1-C10)卤代烷基、(C1-C10)烷氧基、(C6-C12)芳基、(C5-C12)杂芳基、(C6-C12)芳氧基、(C3-C12)环烷基以及(C3-C12)杂环烷基。
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