[发明专利]具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备无效
| 申请号： | 200880004740.5 | 申请日： | 2008-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101606104A | 公开（公告）日： | 2009-12-16 |
| 发明（设计）人： | V·M·克里夫特逊;V·Y·班尼恩;V·V·伊娃诺夫;E·D·克洛普;K·N·克什烈夫;Y·V·斯戴尼克夫;O·雅克什夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于形成电磁辐射束的设备包括等离子体辐射源(24)和翼片阱(25)，该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源(20)的辐射的方向延伸的多个薄翼片(20)。在等离子体辐射源(20)和翼片阱(24)之间设置格栅(22)。在格栅(22)和翼片阱(24)之间设置空间。该设备还包括电势应用电路(28)，其构造并布置成施加电势到格栅(22)上，使得格栅(22)排斥由等离子体辐射源(22)发射的电子并在格栅(20)和翼片阱(24)之间产生正的空间电荷，以使由等离子体辐射源(20)发射的离子偏转到翼片阱(24)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 等离子体 辐射源 设备 形成 辐射 方法 以及 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成电磁辐射束的设备，所述设备包括：等离子体辐射源；翼片阱，所述翼片阱设置有基本上平行于所述等离子体源的辐射的方向延伸的多个薄翼片；格栅，所述格栅设置在所述等离子体辐射源和所述翼片阱之间，其中在所述格栅和所述翼片阱之间设置空间；电势应用电路，所述电势应用电路构造并布置成施加电势到所述格栅，使得所述格栅排斥由所述等离子体辐射源发射的电子，并且在所述格栅和所述翼片阱之间产生正的空间电荷，以将由所述等离子体辐射源发射的离子偏转到所述翼片阱。
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