[发明专利]硅提纯设备无效
申请号: | 200880005094.4 | 申请日: | 2008-02-12 |
公开(公告)号: | CN101646621A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 克里多夫·拉菲;罗杰·伯恩;莱昂内尔·布吉埃尔;克里多夫·吉罗尔德;弗劳伦特·莱莫特;阿曼德·博纳迪尔;帕斯卡·里瓦特;吉恩-皮埃尔·德尔·戈博;丹尼尔·德拉奇 | 申请(专利权)人: | 法国原子能委员会 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037;F27B14/10;F27B14/06;H01L31/18 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩 龙;阎娬斌 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种用于提纯硅载荷(s)的设备,包括:坩锅(5),其包括由作为良好热导体的至少第一难熔材料制造的至少一个基底(20);用于冷却基底的装置(26,28);保护元件(30),其由具有低导热性的至少第二难熔材料制造,并且设在坩锅与载荷之间;和载荷的电感加热装置(23,24),其包括设在基底之中或之下的绕组(23)。 | ||
搜索关键词: | 提纯 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于提纯硅载荷(s)的设备,包括:坩锅(5),其包括由作为良好热导体的至少第一难熔材料形成的至少一个基底(20);用于冷却基底的装置(26,28);保护元件(30),其由作为不良热导体的至少第二难熔材料形成,用于插入坩锅与载荷之间;和用于通过载荷的电感加热基底的装置(23,24),其包括布置在基底之中或之下的绕组(23)。
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