[发明专利]氮化物单晶的制造方法有效
申请号: | 200880005131.1 | 申请日: | 2008-01-24 |
公开(公告)号: | CN101611178A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 市村干也;今井克宏;岩井真;佐佐木孝友;森勇介;川村史朗;北冈康夫 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;C30B19/02;H01L21/208 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 徐申民 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在培养容器(1)内,在含有助熔剂以及单晶原料的熔液(2)中,在晶种基板(5)上制造氮化物单晶时,在培养容器(1)内的熔液(2)的水平方向上设置温度梯度。由此,通过助熔剂法培养氮化物单晶时,抑制杂晶附着到单晶上,并且使单晶的膜厚均匀化。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物单晶的制造方法,在培养容器内,将晶种基板浸渍在含有助熔剂以及单晶原料的熔液中,而后在所述晶种基板的培养面上培养氮化物单晶,其特征在于,在所述培养容器内的所述熔液中,在水平方向上设置温度梯度。
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