[发明专利]包含表面活性剂的能稀释的化学机械抛光组合物有效
| 申请号： | 200880006408.2 | 申请日： | 2008-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN101622326A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 弗朗西斯科·德雷格西索罗;贾森·凯莱赫 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及包含如下物质的抛光组合物：研磨剂、含水介质、其量高于其临界胶束浓度的表面活性剂、以及疏水性表面活性化合物。本发明还提供使用抛光组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 表面活性剂 稀释 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，其包含：(a)研磨剂，其中该研磨剂以该抛光组合物的18重量％或更高的量存在，(b)含水介质，(c)表面活性剂，其中该表面活性剂以高于其临界胶束浓度的量存在，及(d)疏水性表面活性化合物。
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