[发明专利]作为NK3拮抗剂的螺哌啶衍生物无效
申请号: | 200880006465.0 | 申请日: | 2008-01-02 |
公开(公告)号: | CN101622259A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | J·M·卡龙;M·P·狄龙;B·韩;M·内特科文;H·拉特尼;W·维菲安 | 申请(专利权)人: | 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司 |
主分类号: | C07D498/10 | 分类号: | C07D498/10;A61P25/00;A61K31/537 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 黄革生;张 朔 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及式(I)化合物或其药学上适宜的酸加成盐,其中R1是氢或低级烷基;R2是低级烷基、低级羟基烷基或-(CHR5)x-A;R5是氢、低级烷基或低级羟基烷基,或者是任选被低级烷基取代的杂芳基;A是环烷基、芳基、杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个R6取代,其中R6是低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、氰基、卤素、被卤素取代的低级烷基或者被卤素取代的低级烷氧基,或者是任选被低级烷基取代的芳基、杂环基或杂芳基,或者是任选被低级烷基取代的环烷基;x是0、1、2或3;或者R1、R2可以与N-原子一起形成杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个选自如下的取代基所取代:低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、卤素、环烷基、苄基或芳基;R3是氢或卤素;R4是氢或低级烷基;R7是氢、卤素或低级烷基;m是1或2;当m是2时,R3可以相同或不同;n是1或2;o是1或2;当o是2时,R7可以相同或不同。已经发现,本发明的化合物是高效的NK-3受体拮抗剂,用于治疗抑郁、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、焦虑和注意缺陷多动症(ADHD)。 | ||
搜索关键词: | 作为 nk3 拮抗剂 哌啶 衍生物 | ||
【主权项】:
1.式I化合物
其中R1是氢或低级烷基;R2是低级烷基、低级羟基烷基或-(CHR5)x-A;R5是氢、低级烷基或低级羟基烷基,或者是任选被低级烷基取代的杂芳基;A是环烷基、芳基、杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个R6取代,其中R6是低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、氰基、卤素、被卤素取代的低级烷基或者被卤素取代的低级烷氧基,或者是任选被低级烷基取代的芳基、杂环基或杂芳基,或者是任选被低级烷基取代的环烷基;x是0、1、2或3;或者R1、R2可以与N-原子一起形成杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个选自如下的取代基所取代:低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、卤素、环烷基、苄基或芳基;R3是氢或卤素;R4是氢或低级烷基;R7是氢、卤素或低级烷基;m是1或2;当m是2时,R3可以相同或不同;n是1或2;o是1或2;当o是2时,R7可以相同或不同;或其药学上适宜的酸加成盐。
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