[发明专利]用于搪瓷化学反应器的具有向上开口和扁平支座而没有滞留区域的排流组件

摘要

本发明涉及一种具有向上开口的、用于新的或现有化学反应器、特别是搪瓷型化学反应器的排出开口的排流组件类型，其特征在于，用于排流的外部流出开口(6)的下部设置有扁平环形密封(11)形式的可取下支座部，所述扁平环形密封(11)具有上部，所述上部具有至少一个凹进(21)，所述凹进(21)用作阀头部(10)的下表面的支座以及用作完全流动斜坡。本发明特别为化学反应器、特别是搪瓷型化学反应器的制造者和使用者设计。

主权项

1.一种排流组件，其主体安装到新的或现有搪瓷化学反应器的排出孔的外部结构(6)，所述排流组件包含闸口，所述闸口包括具有头部(10)的阀(8)，所述阀在其可移动元件向上移动时打开从而使反应器排空或排流，阀的头部(10)在其向下移动之后通过紧密地接触支座部件(11)从而闭合排出孔(6)，所述排流组件的特征在于，形成正前表面(7)的排出孔结构(6)的下表面以及排流组件主体上面的表面是平的，并且所述平的正前表面(7)以闭合密封接触方式被施加以及保持有成扁平环形密封形式的可取下密封及完全流动支座部件(11)，这种施加和夹紧是由排出孔结构(6)的正前表面(7)与排流组件主体上部之间的机械夹紧组件所产生的，所述可取下密封及完全流动支座部件具有中心流动开口(25)，其上部具有中空构造，所述构造在中央向下会聚，具有形成中心凹进区域的至少一个坡度，所述凹进区域在闭合位置与阀头部(10)的下部接触，所述阀头部(10)被成形为与可取下支座部件(11)的中空部分的至少一个表面适配并且紧密接触，由此允许仅通过该单个可取下密封部件(11)来形成完全水密的密封闭合、以及当化学反应器排空或排流时完全流动的开口而没有任何产品截留区域。