[发明专利]研磨垫有效
| 申请号： | 200880008531.8 | 申请日： | 2008-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101636247A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 小川一幸;数野淳;木村毅;下村哲生 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供从使用初期至末期不会随着透光率的下降而产生终点检测误差的研磨垫；以及提供使用该研磨垫的半导体器件的制造方法。本发明涉及一种研磨垫，具有包含研磨区域及透光区域的研磨层，其特征在于，所述透光区域的研磨面侧的表面经粗糙化处理，并且所述透光区域使用前的在波长600nm下的透光率为40～60％。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫，具有包含研磨区域及透光区域的研磨层，其特征在于，所述透光区域的研磨面侧的表面经粗糙化处理，并且所述透光区域使用前的在波长600nm下的透光率为40～60％。
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