[发明专利]紫外光遮蔽剂化合物无效
申请号: | 200880009149.9 | 申请日: | 2008-02-28 |
公开(公告)号: | CN101970409A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 于尔根·H·沃勒哈特;叶乌根·比尔瑜敏;亚历山大·波斯卡罗 | 申请(专利权)人: | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
主分类号: | C07D213/54 | 分类号: | C07D213/54;C07D235/04;C07D241/36;C07D249/18;C07D251/22;C07D251/24;C07D263/54;C07D277/62;C07D309/38;C07D403/10;C07D413/10;C07D417/10;C07 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 肖善强;南霆 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明提供了新颖的二醇化合物,含有这些化合物的新颖的化妆品或皮肤病学遮光组合物,和所述新颖的化合物作为紫外光遮蔽剂的用途。所述化合物是特别有利的,因为它们粘附在皮肤上,并因此在较长的时间段中提供遮光保护。 | ||
搜索关键词: | 紫外光 遮蔽 化合物 | ||
【主权项】:
1.式I的化合物:
式I,其中-R是可选地用至多3个羟基取代的C1-C24-烷基,残基-(CH2)n-Y或残基(CH2)n-Sp-A,其中所述-(CH2)n-部分可选地能够被至多3个羟基取代,-A为吸收紫外光范围内的光并具有至少4个π电子的共轭π电子体系的取代基,-Sp是键或线性或分支的残基-(CH2)n-、-(CH2)n-C6H4-(CH2)o-、-(CH2)n-C(=O)-(CH2)o-、-(CH2)n-C(=O)-(CH2)o-X-(CH2)p-或-(CH2)n-X-(CH2)p-,-X为O、NR1、S(O)m,-R1是H,可选地用至多3个羟基取代的C1-24-烷基,或-(CH2)n-Y,-Y选自C1-24-烷基、C3-C10-环烷基和C6-C10-芳基,其未被取代或被1-3个取代基取代,所述取代基独立地选自羟基和C1-C6-烷基,-m是选自0、1、2的数字,-n、o和p是独立地选自0-24范围内的整数,-q是整数1、2或3,-其中不同的残基R、X、Sp、R1、A和Y可以具有相同或不同的含义。
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