[发明专利]污染物阻止系统、光刻设备、辐射源和制造器件的方法无效
| 申请号： | 200880009217.1 | 申请日： | 2008-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101641646A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | A·C·瓦辛克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/00;G21K3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种污染物阻止系统(71)，其包括借助于合适的轴承(73，74)进行驱动的可旋转的通道阻挡件(72)。根据本发明的污染物阻止系统(71)布置有基本上设置在所述轴承(73)附近的冷却系统(75)。冷却系统(75)可以包括管道(75a)，通过管道(75a)提供合适的流体冷却剂，尤其是气体。可以通过设置在污染物阻止系统的轴中的中央通道(79a)提供气体。附加地，可以设置布置有合适的管道(76a)的补充冷却系统(76)。因为这种冷却系统(76)布置在污染物阻止系统(71)的周缘上，所以其可以使用水作为合适的冷却剂。本发明还涉及一种光刻投影设备、一种辐射源以及一种制造集成结构的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 污染物 阻止 系统 光刻 设备 辐射源 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种污染物阻止系统，其用于在使用时阻止从辐射源发射的材料与辐射一起传播进入光刻设备，所述污染物阻止系统包括：通道阻挡件，其设置有多个布置有侧壁的细长的通道，所述通道布置用于横向穿过来自所述源的辐射，所述侧壁布置用以吸收或偏转所述材料，其中所述污染物阻止系统布置有冷却系统。
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