[发明专利]一种清洗液及其应用有效
| 申请号： | 200880009264.6 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101657531A | 公开（公告）日： | 2010-02-24 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/18 | 分类号： | C11D7/18;C11D7/32;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203中国上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种清洗液，其含有至少一种氧化剂，至少一种胍类化合物和水。还提供了该清洗液在化学机械抛光后晶片清洗中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880009264.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有水过滤器的制冷装置
- 下一篇：蓝色荧光体、发光装置以及等离子显示面板
