[发明专利]等离子体处理装置的干式清洁方法

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置的干式清洁方法，所述等离子体处理装置包括：具备电介质部件的真空容器，设置在上述电介质部件的外侧的平面电极和高频天线，和通过分别对这些高频天线和平面电极供给高频功率、通过上述电介质部件将高频功率输入到上述真空容器内且产生感应耦合等离子体的高频电源，所述方法包括：将含氟气体导入到上述真空容器内的同时，利用上述高频电源将高频功率输入到上述真空容器内使上述含氟气体产生感应耦合等离子体的工序；和利用该感应耦合等离子体除去附着在上述电介质部件上的含有贵金属和强电介质中的至少一方的生成物的工序。

主权项

1、一种等离子体处理装置的干式清洁方法，所述等离子体处理装置包括：真空容器，具备电介质部件，平面电极和高频天线，设置在所述电介质部件的外侧，和高频电源，用于通过分别对所述高频天线和所述平面电极供给高频功率、通过所述电介质部件将高频功率输入到所述真空容器内产生感应耦合等离子体，其特征在于，所述方法包括：将含氟气体导入到所述真空容器内的同时，利用所述高频电源将高频功率输入到所述真空容器内使所述含氟气体产生感应耦合等离子体的工序；和利用该感应耦合等离子体除去附着在所述电介质部件上的含有贵金属和强电介质中的至少一方的生成物的工序。