[发明专利]导电膜及其生产方法无效

专利信息
申请号: 200880010732.1 申请日: 2008-03-28
公开(公告)号: CN101647074A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 一木晃;楠冈亮 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H05K3/12;H05K3/22;H05K9/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种生产导电膜的方法,包括:通过曝光和显影感光材料形成金属银部分的金属银形成步骤,所述感光材料具有在支持体上的含有银盐的含银盐层,以及平滑处理金属银部分的平滑处理步骤。所述平滑处理步骤是通过压光辊在不小于1960N/cm(200kgf/cm)的线压力下进行的。因此,在制备导电膜产品中,可以降低显影后的膜的表面电阻,这种导电膜产品能够有效屏蔽电磁波。
搜索关键词: 导电 及其 生产 方法
【主权项】:
1.一种生产导电膜的方法,包括:将感光材料曝光和显影从而形成金属银部分的金属银形成步骤,所述感光材料包含支持体以及其上的含有银盐的含银盐层;以及使所述金属银部分经受平滑处理的平滑处理步骤。
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