[发明专利]碳质坩埚的保护方法以及单晶拉制装置有效
申请号: | 200880010903.0 | 申请日: | 2008-04-04 |
公开(公告)号: | CN101652504A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 广濑芳明;幸哲也 | 申请(专利权)人: | 东洋炭素株式会社 |
主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种操作容易且作业时间显著降低,并且能够不使膜破损而无间隙地覆盖坩埚的内表面的碳质坩埚的保护方法以及单晶拉制装置。所述碳质坩埚的保护方法将由膨胀石墨材料构成的保护膜夹设在石英坩埚和载置该石英坩埚的碳质坩埚之间,所述保护膜在所述坩埚间的铺设中将组合为一体的形状的两个以上构成的保护膜片铺设在碳质坩埚的内表面。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 保护 方法 以及 拉制 装置 | ||
【主权项】:
1.一种碳质坩埚的保护方法,将由膨胀石墨材料构成的保护膜夹设在石英坩埚和载置该石英坩埚的碳质坩埚之间,其中,所述保护膜在所述坩埚间的铺设中,将组合为一体的形状的两个以上构成的保护膜片铺设在碳质坩埚的内表面。
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