[发明专利]利用粘着底漆层的压印光刻法有效
| 申请号： | 200880011551.0 | 申请日： | 2008-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101702886A | 公开（公告）日： | 2010-05-05 |
| 发明（设计）人： | F·Y·徐;S·V·斯利尼瓦森;E·B·弗莱彻 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/00 | 分类号： | B05D1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉;周承泽 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明为压印光刻法提供施加粘着底漆层的方法，该方法包括在一种涂布法中使流体与基片表面接触和引发在该流体中的组分与基片的表面之间形成共价键的化学反应以便使粘着底漆层附着于基片的表面。聚合层可以附着于被粘着底漆层覆盖的基片的表面。该方法可为包括有图案的磁介质的双面压印应用涂布粘着底漆层。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 粘着 底漆 压印 光刻 | ||
【主权项】：
一种方法，包括以下步骤：(a)在一种涂布法中使流体与基片表面接触，其中，所述流体的一种组分在该组分的第一端部具有第一官能团，在其第二端部具有第二官能团；(b)引发第一化学反应，该反应使得所述组分的第一端部与所述基片表面之间形成第一共价键，以使得粘着底漆层附着于基片的表面；和(c)使用压印光刻法使聚合层与所述基片的表面粘合，其中，所述粘合过程包括：(i)使聚合性材料沉积在位于基片表面上的粘着底漆层上，(ii)引发聚合性材料的聚合以形成聚合层，和(iii)引发粘着底漆层中所述组分的第二官能团与聚合性材料之间的第二化学反应，以使所述聚合层附着于基片的表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于分子制模股份有限公司，未经分子制模股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880011551.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
