[发明专利]曝光装置、曝光方法和电子器件制造方法无效
| 申请号： | 200880011598.7 | 申请日： | 2008-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101652720A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 井上英也;白石直正 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L23/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 萍;许向华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，通过投影光学系统(PL)在基板(W)上曝光明暗图案。所述曝光装置包括：位置检测系统(10)，检测基板的单位曝光区域(10f)中的多个预定位置(10aa-10ea)。多个参考检测位置(W)落入与单位曝光区域(10f)大致相等的范围内。变形计算单元(11)根据位置检测系统(10)的检测结果来计算单位曝光区域(10f)中的变形状态。形状修改单元(12)根据变形计算单元(11)所计算的变形状态，修改要在基板(W)上曝光的明暗图案的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，通过投影光学系统在基板上曝光明暗图案，所述曝光装置包括：位置检测系统，检测基板的单位曝光区域中的多个预定位置，其中多个参考检测位置落入与所述单位曝光区域大致相等的范围内；变形计算单元，根据所述位置检测系统的检测结果来计算所述单位曝光区域中的变形状态；以及形状修改单元，根据所述变形计算单元计算出的变形状态，修改要在基板上曝光的明暗图案的形状。
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