[发明专利]光产酸剂用化合物以及使用它的抗蚀剂组合物、图案形成方法

摘要

以下式(1)表示的磺酸鎓盐能够用作抗蚀剂组合物用优异的辐射线敏感性产酸剂。通过使用含该磺酸鎓盐的抗蚀剂组合物，能够形成良好的图案。在式(1)中，R¹表示1价有机基团，Q⁺表示锍阳离子或碘鎓阳离子。

主权项

1.一种具有以下式(A)表示的结构的含氟磺酸盐或含有含氟磺酸基的化合物，式中，R¹表示碳原子数1～10的直链或支链烷基(其中，该烷基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代，构成该烷基的同一碳原子上的2个氢原子任选被一个氧原子取代而形成酮基)、碳原子数1～10的直链或支链的至少在末端具有双键的链烯基(其中，该末端链烯基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代，构成该末端链烯基的同一碳原子上的2个氢原子任选被一个氧原子取代而形成酮基)、碳原子数3～20的脂环式有机基团(其中，该脂环式有机基团的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代，构成该脂环式有机基团的同一碳原子上的2个氢原子任选被一个氧原子取代而形成酮基)、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～10的直链或支链烷氧基(其中，该烷氧基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数6～20的芳氧基(其中，该芳氧基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数2～10的直链或支链的烷基羰基(其中，该烷基羰基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数7～20的芳基羰基(其中，该芳基羰基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数2～10的直链或支链的烷基羰氧基(其中，该烷基羰氧基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数7～20的芳基羰氧基(其中，该芳基羰氧基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)、碳原子数1～10的直链或支链烷氧基羰基(其中，该烷氧基羰基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)或碳原子数7～20的芳氧基羰基(其中，该芳氧基羰基的氢原子的部分或全部任选被氟或羟基取代)，a是1或0。