[发明专利]电极箔及其制造方法以及电解电容器无效
| 申请号： | 200880012854.4 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101689429A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 今中佳彦;船桥稔;石塚英俊;山田胜治 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H01G9/055 | 分类号： | H01G9/055 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种电极箔以及具有所述电极箔的电解电容器。所述电极箔具有如下结构：在金属箔表面上堆积有以具有介电常数的阀金属颗粒和/或陶瓷颗粒为主成分的金属颗粒和陶瓷颗粒，该电极箔是如下制造的：在气溶胶腔室的制膜室内设置铝箔，使铝粉末气溶胶化，将所述被气溶胶化的铝粉末向设置在所述制膜室内的铝箔喷射，在所述铝箔上堆积铝颗粒，由此制造电极箔。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 及其 制造 方法 以及 电解电容器 | ||
【主权项】：
1、一种电极箔，其具有如下结构：在金属箔表面上堆积有以具有介电常数的阀金属颗粒和/或陶瓷颗粒为主成分的金属颗粒和陶瓷颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社，未经富士通株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880012854.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有电子生成与聚焦沟的阴极、离子源及其方法
- 下一篇：固体电解电容器
