[发明专利]微光刻曝光装置中照明掩模的照明系统有效
| 申请号： | 200880013453.0 | 申请日： | 2008-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN101669071A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·德冈瑟;保罗·格劳普纳;于尔根·费希尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邱 军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种在微光刻曝光装置(10)中照明掩模的照明系统，其具有光轴(60；460)以及光瞳表面(70；470)。该系统包括诸如镜(Mij)的反射或透明光束偏转元件的光束偏转阵列(46；446)。其中每一偏转元件(Mij)适配成将打入光线以响应于控制信号可变的偏转角偏转。光束偏转元件(Mij)布置在第一平面(40；440)中。该系统还包括具有多个微透镜和/或衍射结构的光学光栅元件(34；434)。布置在第一平面(40；440)中的光束偏转元件(Mij)和布置在第二平面(34；434)中的光学光栅元件(34；434)共同产生两维远场强度分布(C)。光学成像系统(40，41；440，441)光学上共轭第一平面(40；440)到第二平面(34；434)。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 曝光 装置 照明 系统 | ||
【主权项】：
1、一种微光刻曝光装置中照明掩模(16)的照明系统，包括：a)光轴(60；460)，b)光瞳表面(70；470)，c)反射或透明光束偏转元件(Mij)的光束偏转阵列(46；446)，其中-每一个偏转元件(Mij)适配，以将打入光线以响应于控制信号而可变的偏转角偏转，并且其中-偏转元件(Mij)至少大体上布置在第一平面(40；440)中，d)光学光栅元件(34；434)，其-包括多个微透镜和/或衍射结构，并且-被布置在第二平面(34；434)中，其中，光束偏转阵列(46；446)以及光学光栅元件(34；434)共同产生两维远场强度分布(C)，其特征在于使得第一平面(40；440)与第二平面(34；434)光学共轭的光学成像系统(40，41；440，441)。
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