[发明专利]向非导电基底施用金属涂层的方法有效

专利信息
申请号: 200880014598.2 申请日: 2008-04-24
公开(公告)号: CN101675186A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: S·沙多;B·迪尔布施;C·C·费尔斯 申请(专利权)人: 阿托特希德国有限公司
主分类号: C25D5/54 分类号: C25D5/54;C25D5/56;C23C18/28;C23C18/30;C23C28/04
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 林柏楠;刘金辉
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明描述了向非导电基底施用金属涂层的新型方法,包括下述步骤:(a)使该基底与包含贵金属/第IVA族金属溶胶的活化剂接触,以获得经过处理的基底,(b)使所述经过处理的基底与包含下述物质的溶液的组合物接触:(i)Cu(II)、Ag、Au或Ni可溶金属盐或其混合物,(ii)0.05至5摩尔/升的第IA族金属氢氧化物,和(iii)所述金属盐的金属离子的络合剂,其中使用亚氨基琥珀酸或其衍生物作为所述络合剂。
搜索关键词: 导电 基底 施用 金属 涂层 方法
【主权项】:
1.向非导电基底施用金属涂层的方法,包括下述步骤:(a)使基底与包含贵金属/第IVA族金属溶胶的活化剂接触,以获得经过处理的基底,(b)使所述经过处理的基底与包含下述物质的溶液的组合物接触:(i)Cu(II)、Ag、Au或Ni可溶金属盐或其混合物,(ii)0.05至5摩尔/升的第IA族金属氢氧化物,和(iii)所述金属盐的金属离子的络合剂,其特征在于使用亚氨基琥珀酸或其衍生物作为所述络合剂。
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