[发明专利]用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统的校准

摘要

本发明涉及一种在故障检验和过程监测中使用的光谱设备辐射校准系统和方法。首先，将参考摄谱仪校准到本地基本标准(具有已知光谱强度和可追溯到参考标准的经校准的光源)。然后根据参考摄谱仪而非本地基本校准标准来校准其它摄谱仪。这通过用参考摄谱仪和待校准的摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准的摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较，然后进行调整以与该输出一致。当前的校准过程能分两个阶段完成，第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪，然后在等离子腔室微调到窄带光源。作为替代，参考摄谱仪能校准到本地基本标准而光学耦合到等离子腔室。在此，本地基本标准校准光源临时定位在等离子腔室内、或者在沿着腔室内部布置的光腔室中，用于校准参考摄谱仪。当耦合到具有本地基本标准校准光源的等离子腔室时，其它摄谱仪能校准到参考摄谱仪，从而将整个光学路径中的每个组件校准到参考光源。

主权项

1.一种用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统校准方法，其特征在于，包括：将第一摄谱仪校准到本地基本标准；在第一摄谱仪处从第一光源接收光，其中所述第一光源发射多个未知的光谱强度；在第二摄谱仪处从所述第一光源接收光；响应于在所述第一摄谱仪处从所述第一光源接收光，产生经校准的光谱信息；响应于在所述第二摄谱仪处从所述第一光源接收光，产生未校准的光谱信息；以及将所述第二摄谱仪校准到由所述第一摄谱仪产生的经校准的光谱信息。