[发明专利]发光二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200880016875.3 申请日: 2008-05-16
公开(公告)号: CN101689584A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 酒井士郎;直井美贵 申请(专利权)人: 首尔OPTO仪器股份有限公司;德岛大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 郭鸿禧;罗延红
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种制造发光二极管的方法,该方法包括以下步骤:在基底上形成化合物半导体层,所述化合物半导体层包括下半导体层、有源层和上半导体层;通过用研磨剂摩擦所述基底来刮擦所述基底的表面。根据本发明,使用所述研磨剂来摩擦并刮擦发光二极管的表面,由此可以使得从所述有源层发射的光有效地出射到外面。因此,可以提高发光二极管的光出射效率。
搜索关键词: 发光二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种制造发光二极管的方法,包括以下步骤:在基底上形成化合物半导体层,所述化合物半导体层包括下半导体层、有源层和上半导体层;通过用研磨剂摩擦所述基底来刮擦所述基底的表面。
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