[发明专利]用于抛光垫的衬垫和使用该衬垫的抛光垫有效

专利信息
申请号: 200880016877.2 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101678527A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 加藤充;菊池博文;加藤晋哉 申请(专利权)人: 可乐丽股份有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;H01L21/304
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供可实现抛光的抛光垫和用于该抛光垫的衬垫,该抛光可实现抛光表面的优异平坦性和在抛光后的膜厚度的均匀性,和同时实现高抛光速率,且还具有抛光物体如绝缘膜或金属膜的优异抛光均匀性。所述衬垫满足以下要求:在23℃、静载荷27.6kPa、频率11Hz和振幅1μm的条件下的动态压缩粘弹性测量中,(1)动应力和变形之间的相位差不超过4度,和(2)变形的最大值与动应力的最大值的比([变形的最大值]/[动应力的最大值])不小于0.5μm/kPa。所述抛光垫包括用于抛光垫的衬垫层和抛光层。
搜索关键词: 用于 抛光 衬垫 使用
【主权项】:
1.一种用于抛光垫的衬垫,其中在23℃、27.6kPa的静载荷、11Hz的频率和1μm的振幅的条件下进行动态压缩粘弹性测量时,(1)动应力和变形之间的相位差为4°或更小,并且(2)变形量的最大值与动应力的最大值的比[变形量的最大值]/[动应力的最大值]为0.5μm/kPa或更大。
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