[发明专利]工艺窗发觉检测以及掩模层处光刻印刷问题的校正

摘要

在本发明的一个方面中，一种方法利用根据至少两个印刷临界性等级对光学参数空间进行分类提供了用于临界特征印刷工艺的标定的临界失败模型。基于用于临界特征的印刷失败标准判断相应临界特征的印刷失败。对于光学参数空间中的给定点，相应的印刷临界性等级根据工艺窗采样点处的测试-印刷-模拟数据以及根据失败规则来确定。该方法所实现的一个优点在于其包括根据工艺窗的唯一一个采样点处的测试-印刷-模拟数据确定预定光学参数组，该采样点对于所有的测试图案都相同。这通过减少所确定的光学参数组的数量及其随后扫描和分类步骤中的工艺而节省了工艺时间和工艺复杂性。

主权项

一种用于对与印刷图案物理布局中临界特征(100、200、700、1300)的印刷失败(108、1308)有关的临界失败模型进行标定的方法(800)，包括以下步骤：-提供(804)所述临界特征的印刷失败标准，所述印刷失败标准与所述临界特征印刷中的几何参数有关，所述几何参数从对所述印刷进行模拟的测试-印刷-模拟数据得到；-提供(806)代表不同测试图案(700)的印刷模拟的测试-印刷-模拟数据(301至307)，其中，所述测试图案具有临界特征，不同测试图案彼此之间在其各自的所述临界特征(700)的几何参数值(CDx，CDy，d)方面不同；-根据所述临界特征印刷位置处的所述测试-印刷-模拟数据来确定(808)预定光学参数组(Imax，Imin)；-扫描(810)所述测试-印刷-模拟数据以根据所述印刷失败标准确定是否存在印刷失败；以及-使用在由所述光学参数组中的至少一个光学参数确定范围的光学参数空间各点处进行的测试印刷模拟中检测到的印刷失败，根据至少两个印刷临界性等级对所述光学参数空间中各区进行分类(816)，其中，-根据工艺窗(PW)的仅一个采样点(z)处的所述测试-印刷-模拟数据确定所述预定光学参数组，其中，所述采样点对于所有测试图案都相同；-在对所述光学参数空间进行分类之前提供(812)至少一个失败规则，所述失败规则提供了所述光学参数空间中各点的趋势信息，所述趋势信息表示当从所述工艺窗的所述采样点(z)移动至不同工艺窗点(u、v、w、x、y)时测试图案的临界特征的印刷中所述几何参数的趋势；以及其中-对所述光学参数空间中的各区进行分类(816)的步骤包括：根据采样点(z)处的所述测试-印刷-模拟数据以及根据所述失败规则来确定各印刷临界性等级。