[发明专利]基板清洁腔室以及清洁与调节方法有效
| 申请号： | 200880017116.9 | 申请日： | 2008-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN101680105A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 维内特·H·梅塔;卡尔·M·布朗;约翰·A·帕皮通;丹尼尔·J·霍夫曼;史蒂文·C·香农;基思·A·米勒;维杰·D·帕克 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F1/00 | 分类号： | C25F1/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;钟 强 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 基板清洁室包括具有拱形表面的轮廓顶电极，所述拱形表面面对基板支撑件且具有可变的横截面厚度，以改变拱形表面与基板支撑件之间的间隙大小好提供横跨基板支撑件的可变的等离子体密度。清洁室的介电环包括底部、脊部以及覆盖基板支撑件的外围唇部的径向向内架部。底部挡板包括具有至少一外围壁的圆形盘。同时描述了清洁室的清洁与调节处理。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 以及 调节 方法 | ||
【主权项】：
1.一种轮廓顶电极，用于具有基板支撑件的清洁室，其中所述基板支撑件具有基板接收表面与支撑电极，所述顶电极包括：拱形表面，面对所述基板支撑件，所述拱形表面具有直径，大小可以延伸横跨所述基板支撑件的基板接收表面；且具有横截面厚度，横跨所述基板支撑件而变化，以改变形成在所述拱形表面与所述基板支撑件的支撑电极间的间隙的尺寸，从而可让所述拱形表面与所述基板支撑件间形成的等离子体的等离子体密度可横跨所述基板支撑件而径向地改变；及环状带，自所述拱形表面的外围向下延伸以包围所述基板支撑件；及支撑架部，自所述环状带径向向外延伸。
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