[发明专利]防污加工剂组合物及其制造方法及加工物品有效
申请号: | 200880017979.6 | 申请日: | 2008-05-21 |
公开(公告)号: | CN101679835A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 原弘之;杉本修一郎;广野高生;前川隆茂 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C09K3/00 | 分类号: | C09K3/00;C08F2/38;C08F220/24;D06M15/277 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 冯 雅;胡 烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供使用了短链全氟烷基的氟类防污加工剂组合物,该防污加工剂组合物可形成为几乎不含挥发性有机溶剂的水分散液的形态,具有良好的去污性(SR性)。该防污加工剂组合物的特征在于,含有含氟共聚物,所述含氟共聚物包含30~70质量%的具有碳数1~6的全氟烷基的聚合单元(a’)、20~69质量%的具有烯化氧链的聚合单元(b’)和1~10质量%的具有氨基的聚合单元(c’),在主链末端具有阴离子性基团。 | ||
搜索关键词: | 防污 加工 组合 及其 制造 方法 物品 | ||
【主权项】:
1.防污加工剂组合物,其特征在于,含有含氟共聚物,所述含氟共聚物包含30~70质量%的基于下述单体(a)的聚合单元(a’)、20~69质量%的基于下述单体(b)的聚合单元(b’)和1~10质量%的基于下述单体(c)的聚合单元(c’),主链末端具有阴离子性基团,单体(a):F(CF2)sY-OCOCR=CH2表示的化合物,式中,s表示1~6的整数,R表示氢原子、碳数1~3的烷基或卤素原子,Y表示碳数1~10的亚烷基,单体(b):CH2=CR1-COO-(R2O)q-R3表示的化合物,式中,R1表示氢原子或甲基,R2表示碳数2~4的亚烷基,R3表示氢原子、碳数1~8的烷基、(甲基)丙烯酰基或环氧丙基,q表示1~140的整数,q为2~140时存在于一分子中的多个-(R2O)-可以相同也可互不相同,单体(c):CH2=CR4-M-Q-NR5R6或CH2=CR4-M-Q-N(O)R5R6表示的化合物,式中,R4表示氢原子或甲基,M表示-COO-或-CONH-,Q表示碳数2~4的亚烷基或氢原子的一部分或全部被羟基取代的碳数2~3的亚烷基,R5及R6分别独立地表示苄基、碳数1~8的烷基、氢原子的一部分被羟基取代的碳数2~3的烷基,R5、R6及氮原子可形成哌啶子基或吡咯烷基,R5、R6、氧原子及氮原子可形成吗啉代基。
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