[发明专利]沉积设备无效

专利信息
申请号: 200880018116.0 申请日: 2008-05-28
公开(公告)号: CN101680077A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 竹山辉茂;畦原吉史;井川诚一 申请(专利权)人: 佳能安内华股份有限公司
主分类号: C23C14/00 分类号: C23C14/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张 涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种沉积设备,其通过用从等离子体发生器(2)供应到室(1)中的等离子体辐射来将从沉积材料(4)分离的材料粒子沉积在沉积对象物(10)上而形成薄膜,其特征在于包括:容纳沉积材料(4)的炉床(3);和在向着沉积对象物(10)运动的材料粒子的运动区域(X)的范围之外安装在炉床(3)附近的捕获机构(15)。运动区域(X)由沉积对象物(10)的宽度和等离子体入射在沉积材料(4)上的入射方向上的宽度(W)确定。捕获机构(15)捕获至少部分从沉积材料(4)分离且位于运动区域(X)的范围之外的材料粒子。
搜索关键词: 沉积 设备
【主权项】:
1.一种沉积设备,所述沉积设备通过用从等离子体发生装置供应到室中的等离子体辐射来将从沉积材料分离的材料粒子沉积在沉积对象物上而形成薄膜,所述沉积设备包括:适于容纳所述沉积材料的容纳装置;和捕获装置,所述捕获装置在向着所述沉积对象物运动的材料粒子的运动区域的范围之外安装在所述容纳装置附近,所述运动区域由所述沉积对象物的宽度和所述等离子体入射在所述沉积材料上的入射方向上的宽度确定,所述捕获装置捕获至少部分从所述沉积材料分离且位于所述运动区域的范围之外的材料粒子。
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