[发明专利]移动体装置、曝光装置及图案形成装置、以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200880018712.9 | 申请日： | 2008-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN101680746A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 牧野内进 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01D5/36;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种移动体装置，具备：具有测量载台(WST)的一轴(Y轴)方向位置的编码器(28Y)及干涉仪(26Y)的Y位置测量系统(20Y)。干涉仪(26Y)，接近编码器(28Y)的测量光(BE)将测量光(B1，B2)照射于设在载台(WST)的反射面(36Y)，并接收其反射光。此处，编码器(28Y)与干涉仪(26Y)，兼用固定于载台(WST)的光学构件(30Y)。因此，Y干涉仪(26Y)与Y编码器(28Y)具有大致相等的测长轴。 | ||
| 搜索关键词： | 移动 装置 曝光 图案 形成 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种移动体装置，具备：移动体，沿既定平面在至少一轴方向上移动；第1测量装置，包含：第1测量光沿着至少一部分中包含上述一轴方向的第1光路的光路所照射的设于上述移动体上的移动光栅、在该移动光栅中产生的衍射光所照射的设于上述移动体外的以上述一轴方向为周期方向的固定光栅、以及将来自该固定光栅的衍射光经由上述移动光栅加以接收的受光系统，该第1测量装置用以测量上述移动体在上述一轴方向的位置信息；第2测量装置，沿着接近或重叠于上述第1光路的上述一轴方向的第2光路，将第2测量光照射于设在上述移动体的反射面上，接收来自该反射面的反射光，从而测量上述移动体在上述一轴方向上的位置信息。
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