[发明专利]形成于较大透镜阵列上的用于对像素群组内经移位的光电二极管位置进行调整的微透镜无效

专利信息
申请号: 200880019374.0 申请日: 2008-05-02
公开(公告)号: CN101681916A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 李进;乌尔里希·C·伯蒂格 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;G02B3/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 沈锦华
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明揭示一种透镜(130),所述透镜经形成以支撑形成于所述透镜上的至少一个微透镜(140)并使其倾斜。可基于所需的聚焦特性控制所述微透镜的斜坡的度数及方向以向或从像素阵列中的像素引导光。
搜索关键词: 形成 较大 透镜 阵列 用于 像素 内经 移位 光电二极管 位置 进行 调整
【主权项】:
1、一种微透镜结构,其包括:第一透镜,其由像素阵列的一部分支撑,所述透镜的上表面具有相对于所述部分的上表面的斜坡;及至少一个微透镜,其由所述第一透镜支撑。
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