[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法

摘要

在载台(WST2)上搭载2个X读头(EX₁、EX₂)与1个Y读头(EY)，并将与这些读头对应的X标尺(SX₂)与Y标尺(SY₂)以连结曝光区域与对准区域的方式与载台(WST2)相对设置。一边使用3个编码器读头(EX₁、EX₂、EY)进行位置测量、一边使载台(WST2)沿着标尺(SX₂、SY₂)的设置路径在曝光区域与对准区域之间来回移动。如此，无需XZ干涉仪(116、117)间、及XZ干涉仪(126、127)间的切换处理，且能使用测量区域相异的2个位置测量系统稳定且高精度地测量于XY平面内移动的载台的位置。

主权项

1、一种曝光装置，用能量束使物体曝光，具备：移动体，在其上保持该物体并且能够在包含第1、第2、第3区域的预定范围的区域内基本上沿预定平面移动，其中第1区域包含至少对所装载的该物体进行曝光的曝光位置，第2区域位于该第1区域的第1方向的一侧、至少进行该物体的更换，第3区域位于该第1区域与该第2区域之间；第1光栅部，配置在与该移动体的基本上平行于该预定平面的表面相对的、与该预定平面平行的平面上的与该第3区域对应的位置上；以及测量装置，包括：具有设在该移动体的表面上的编码器读头、根据与该第1光栅部相对的该编码器读头的输出来测量该移动体在该预定平面内的位置信息的编码器系统；以及对设于该移动体上的反射面照射测量光束、测量该移动体至少在该第1区域与该第2区域中的位置信息的干涉仪系统，其中，该第3区域包含该测量光束脱离该反射面的该移动体的移动路径。