[发明专利]制造磁记录介质的方法以及磁记录和读取装置无效
| 申请号： | 200880019557.2 | 申请日： | 2008-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN101681629A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 福岛正人;坂胁彰;佐佐木保正 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/65 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于 静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明旨在提供一种制造磁记录介质的方法，其是一种制造具有磁性分离的磁记录图形的磁记录介质的方法，所述方法包括：在非磁性基底上形成磁性层；然后将所述磁性层的表面部分地暴露到反应性等离子体或在所述等离子体中产生的反应性离子，以使所述磁性层的该部分非晶化。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 记录 介质 方法 以及 读取 装置 | ||
【主权项】：
1.一种制造磁记录介质的方法，所述磁记录介质具有磁性分离的磁记录图形，所述方法包括以下步骤：在非磁性基底之上形成磁性层；以及然后，将所述磁性层的表面部分地暴露到反应性等离子体或在所述等离子体中产生的反应性离子，以使所述磁性层的该部分非晶化且使所述部分的磁特性改性，由此形成磁性分离的磁记录图形。
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